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研究プロジェクト
: フォトニックデバイス |
新世代コヒーレントフォトニクデバイスの創出 |
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多機能マイクロチップセラミックレーザー
、新しい能動光回路素子
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メンバー
サブリーダー植田憲一 (レーザー研)
サブリーダー大谷俊介 (レーザー研)
豊田太郎 (量子・物質)
小林直樹 (量子・物質)
野崎真次 (電子)
大淵泰司 (量子・物質)
石田尚行 (量子・物質)
奥野剛史(量子・物質)
山口浩一
(電子)
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種々の機能を持つ光ファイバーを作製するテストファシリティーを立ち上げる。光ファイバーレーザーをはじめフォトニッククリスタルファイバー、テーパードファイバー等を種々のデザインの下に作成し新デバイスの開発を行う。本ファシリティーは量子操作や非線形光学にも新しい可能性を開くものであり、第1,2の課題にも重要な意味を持つ。
量子操作の方法を半導体量子ドット系に拡張し、デバイス技術として発展させる。量子ドットは、大谷によるイオントラップ装置TOKYO
EBITを用い、多価イオン照射により固体表面での高精度のナノ加工を実現する新しい方法を開拓するとともに、小林のMOCVD技術を発展させる。
デバイス創出のもっとも基本的なアプローチは新物質の開発である。本プログラムにおいてはこのアプローチを二つの方法で着実に実行する。第1の方法は、植田によるセラミックレーザー材料である。レーザー材料から非線形フォトニック材料としてまで系統的に研究を展開する。第2は、石田による有機固体材料である。新しいフォトニック材料としての可能性を目指して系統的な研究を行う。
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